تکنولوژی سه یون

قطعات پرتو سه یون عمودی بر روی سطح جانبی نمونه است، بنابراین در زمان بمباران پرتو یون نمونه (ثابت بر روی پشتی نمونه) نیاز به حرکت نوسان برای کاهش اثر پروژکت / مسدود کردن ندارد، که به نوبه خود انتقال حرارتی موثر را تضمین می کند و نمونه را در طول فرآیند پردازش تحریف حرارتی کاهش می دهد.
فناوری
پرتو سه یونی در نقطه وسطی لبه پارچه جمع می شود و یک فان بمباران 100 درجه را تشکیل می دهد و به سمت نمونه ای که در معرض بالای پارچه قرار دارد (بالای نمونه حدود 20-100 میکرومتر از پارچه بالاتر است) برش می کند تا بمباران به منطقه هدف داخلی نمونه برسد. اسلحه یونی طراحی شده جدید می تواند سرعت سنگ خوردن پرتو یونی را به 300 میکرومتر در ساعت (Si10 kV، 3.0 mA، ارتفاع برش 50 میکرومتر) تولید کند. سیستم سه یونی منحصر به فرد لایکا، قطعات برش با کیفیت بالا و با سرعت بالا، سطح برش وسیع و عمیق، باعث صرفه جویی در زمان کار می شود. با استفاده از این فناوری منحصر به فرد، قطعات برش با کیفیت بالا با اندازه منطقه > 4 × 1 میلی متر به دست می آیند.

Leica EM TIC 3X - ویژگی های نوآورانه در طراحی و عملیات

حجم بالا، افزایش هزینه
برش با کیفیت بالا با اندازه منطقه > 4 × 1 میلی متر
››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››
نرخ سنگ زنی یون بالا، مواد Si 300μm / h، ارتفاع برش 50μm، می تواند نیازهای جریان بالا آزمایشگاه را برآورده کند
بزرگ ترین اندازه نمونه 50 × 50 × 10 میلی متر
›››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››
››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››››
کنترل ساده از طریق صفحه لمسی بدون نیاز به مهارت های خاص
فرآیند پردازش نمونه را می توان در زمان واقعی نظارت کرد و از طریق آینه تلویزیونی یا دوربین HD-TV مشاهده کرد
روشنایی LED برای مشاهده نمونه ها و کالیبراسیون موقعیت
›› سیستم پمپ خلاء داخلی و جداگانه طراحی شده برای ارائه یک دیدگاه بدون لرزش
›› می تواند در بخش برش مسطح آماده شده افزایش اثر پوشش، یعنی پردازش خوردگی پرتو یونی.
بارگذاری یا دانلود پارامتر ها و برنامه ها از طریق USB
>> تقریبا برای هر نمونه مواد مناسب است
›› با استفاده از میز نمونه های یخ زده، پارچه و دمای نمونه می تواند تا -150 درجه سانتیگراد کاهش یابد

انواع نمونه های مختلف

تقریبا برای نمونه های مختلف اندازه مناسب است و برای کاربردهای گسترده ای مناسب است. با استفاده از یک بستر نمونه، می توانید پیش از آماده سازی مکانیکی (Leica EM TXP) تا برش پرتو یون (Leica EM TIC 3X) و بازرسی آینه ای SEM را انجام دهید و سپس در جعبه ذخیره سازی نمونه برای بازرسی بعدی قرار دهید.

افزایش پوشش

بعد از برش پرتو یون، بدون نیاز به برداشتن نمونه، با استفاده از همان بار نمونه نیز می تواند اثر تقویت پوشش نمونه را انجام دهد، می تواند ساختار توپولوژی قبل از فاز های مختلف نمونه را تقویت کند (مانند کریستال)

دقت بالا

در حال حاضر، ساختار جزئیات کوچکتر و کوچکتر در نمونه به تدریج توجه مردم را جلب می کند. و به دست آوردن قطعات از طریق برش، مانند به دست آوردن ساختار بسیار کوچک سوراخ TSVia، به راحتی تبدیل شده است. تمام میز های نمونه برای رسیدن به دقت کالیبراسیون موقعیت نمونه تا ±2μm طراحی شده اند. نه تنها دقت کنترل میز نمونه می تواند چنین کالیبراسیون دقیق موقعیت هدف را به دست آورد، بلکه سیستم مشاهده همچنین می تواند جزئیات نمونه را با حداقل اندازه حدود 3 میکرومتر برای موقعیت دقیق هدف مشاهده کند. برای کمک به مشاهده بهتر نمونه در موقعیت، منبع نور حلقه ای LED 4 تقسیم شده یا روشنایی هممحور LED کمک زیادی می کند تا به کاربر کمک کند تا تصاویر واضح را از آینه تلویزیونی یا دوربین HD-TV بدست آورد.
از آنجا که پمپ خلاء در داخل دستگاه قرار دارد، دیگر نیازی به تخلیه یک فضای جداگانه نیست. به لطف طراحی جداسازی پمپ خلاء، در طول آماده سازی نمونه، میدان دید توسط لرزش تولید شده توسط پمپ خلاء مختل نمی شود.